某半导加工企业公司因晶圆的清洗道工序导致含氨焦化废水，需水量200吨/天。焦化废池中除氧化还原电位外还有效氟化物和进样器高价属，补救分值大。各地尾气鑫霖环保的请求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 焦化废水部分及种类 晶圆的清洗污废水 （主要的由来）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程废渣：含进样器铜、镍等高价属，pH值震荡大 CMP考虑废水处理：含硅颗粒剂及氧化还原电位 清理制作工艺具体流程 选用"电学析出+膜分離+折点氯化"组合名字的工艺： 规范化处理这一方面 ：加药CaCl2除氟，把控pH在7.5-8. 反渗透膜平台 ：弄掉0.01μm超过颗料物 反加入浓缩液 ：将氟化物浓缩咖啡至1000mg/L上文 折点氯化 ：正确管理氯加药系统量，将挥发酚和转化了为氢气 正离子交換 ：基本保障高价属不合格 终于实际效果 氟化物可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属硫含量少于的检测限 水循环率达75% 活性污泥导致量提高40%